Analytisches Transmissionselektronenmikroskop TECNAI G² 20

Technische Universität Wien (TU Wien)

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Großgerät

Kurzbeschreibung

USTEM ist die zentrale Einrichtung der TU Wien für analytische und hochauflösende elektronenmikroskopische Untersuchungen. Die Schwerpunkte liegen in Transmissionselktronenmikroskopie (TEM), Rasterelektronenmikroskopie (SEM) und Focused Ion Beam (FIB).
Das "TECNAI G2 20" ist ein analytisches Transmissionselektronenmikroskop mit Röntgendetektor, Rastertransmissionsmodus, Gatan Imagefilter GIF 2001 und CCD Kameras.
Es erlaubt einzigartig Betriebsspannung von 10 kV bis 200 kV bei gleichzeitiger Verwendung des Energieverlustspektrometers.
Zusätze sind diverse Probenhalter, u.a. Heizhalter und Tieftemperatur-Probenhalter sowie Cathodolumineszenz-Probenhalter und Spektrometer.

Ansprechperson

Privatdoz. Dipl.-Ing. Dr.techn. Michael Stöger-Pollach

Research Services

Analytische Transmissionselektronenmikroskopie, Valence-EELS und Low Voltage EELS,
Halbleiteruntersuchungen mit EELS, Chemische Mikroanalyse,
Strukturanalyse mittels Elektronenbeugung

Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur

Analytische Transmissionselektronenmikroskopie mit Rastermodus (STEM)
Valence-EELS und Low Voltage EELS mit bis zu 10 kV Beschleunigungsspannung, speziell für Halbleiteruntersuchungen
Struktur- und Phasenanalyse mittels Elektronenbeugung
Mikroanalyse mit hoher Ortsauflösung mittels EDX und EELS

Privatdoz. Dipl.-Ing. Dr.techn. Michael Stöger-Pollach
USTEM
01-58801-45204
stoeger@ustem.tuwien.ac.at
http://www.ustem.tuwien.ac.at
Benutzung durch Operator oder selbständig nach Einschulung für Forschungsprojekte, im Rahmen der Eigenforschung der Institute und für Lehrveranstaltungen
crystalsol GmbH
CERN
Carinthian Tech Research AG
Universität Wien
Frauenhofer Institut Dresden CNT
Low voltage TEM: Influences on electron energy loss spectrometry experiments. (2010).Stöger-Pollach, M. Micron, 41(6), 577-584. doi:10.1016/j.micron.2010.04.007

Transition radiation in EELS and cathodoluminescence. (2017). Stöger-Pollach, M., Kachtík, L., Miesenberger, B., & Retzl, P. Ultramicroscopy, 173, 31-35. doi:10.1016/j.ultramic.2016.11.020

The čerenkov limit of si, GaAs and GaP in electron energy loss spectrometry. (2015). Horák, M., & Stöger-Pollach, M. Ultramicroscopy, 157, 73-78. doi:10.1016/j.ultramic.2015.06.005