UHV-Anlage CEMS - Anlage zur Herstellung und Charakterisierung von dünnen Schichten

Universität Wien

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Großgerät

Kurzbeschreibung

Zubehör: 2 VAT-UHV-Schieber DN 100 CF, UHV-Sensor + Crystal Sensor 2-3/4""CF, CEMS Aufrüstung.
Im Rahmen des Investitionsvorhabens UHV-CEMS IP792001 wurde in den Jahren 2007-2009 eine UHV-Kammer zur Herstellung und Charakterisierung von Oberflächen unter Ultrahochvakuumbedingungen (UHV-Bedingungen) angeschafft. Der Einbau erfolgte in eine bestehende Kammer, die zum Teil aus Drittmitteln finanziert wurde. Die Anlage erlaubt die kontrollierte Herstellung von Oberflächen und dünnen Schichten bzw. Multischichten auf verschiedenen Substratmaterialien. Durch gezielte Wärmebehandlung können Nanostrukturen (Insel, Nanodrähte, etc.) hergestellt werden. Die Multischichten werden vorwiegend durch Röntgenreflektometrie untersucht (siehe Röntgen NanoSTAR), sonst werden die Proben für auswärtige Messungen u.a. an Synchrotronquellen ESRF oder PETRA III, hergestellt.

Ansprechperson

Bogdan Sepiol

Research Services

Derzeit werden keine Research Services für diese Forschungsinfrastruktur angeboten. Bei Interesse an einer Kooperation setzen Sie sich bitte mit Bogdan Sepiol (bogdan.sepiol@univie.ac.at) in Verbindung.

Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur

Herstellung und Charakterisierung von Oberflächen unter Ultrahochvakuumbedingungen, Nanostrukturen

Bogdan Sepiol
Dynamik Kondensierter Systeme
T: +43-1-4277-72902
bogdan.sepiol@univie.ac.at
http://dcs.univie.ac.at/
Nach der Absprache mit B. Sepiol, Tel. 01 4277 72902