Atomic Layer Deposition System Savannah 100

JKU - Johannes Kepler Universität Linz

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Großgerät

Kurzbeschreibung

Anlage zur Herstellung von dünnen dielektrischen Schichten (Alumina, Hafnia, Titania) auf Substrate bis 100 mm

Ansprechperson

Univ.-Prof. Dr. Armando Rastelli

Research Services

- Beschichtung von Proben mit Alumina, Hafnia oder Titania
- Wärmeleitfähigkeitsmessungen an Dünnschichten

Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur

Herstellung von Isolierschichten für thermische Leitfähigkeitsmessungen mit der "3-Omega Methode", für Transistorstrukturen und photonische Strukturen.

Zuordnung zur Core Facility

Center for Nanoscale Semiconductors

Die Nutzungsbedingungen für das Gerät sind zu vereinbaren. Informationen und Kontaktdaten finden Sie auf der JKU Webseite unter http://www.jku.at/hfp/.
CEA Grenoble, FR
IFW Dresden, DE
Univ. Illinois, USA
Role of Surface-Segregation-Driven Intermixing on the Thermal Transport through Planar Si/Ge Superlattices, 2013, Peixuan Chen, N. A. Katcho, J. P. Feser, Wu Li, M. Glaser, O. G. Schmidt, David G. Cahill, N. Mingo, and A. Rastelli, Phys. Rev. Lett. 111, 115901, http://journals.aps.org/prl/abstract/10.1103/PhysRevLett.111.115901