Kurzbeschreibung
Aufdampfanlage Pfeiffer Vacuum Austria
Dünnschichtabscheidung von Metallen und Halbleitern im Hochvakuum aus thermischen Verdampferquellen
Hauptanwendung: Kontaktmetallisierung und elektrische Leiterbahnen auf Halbleiterbauelementen
Ansprechperson
Univ.-Prof. Dr. Armando Rastelli
Research Services
Dünnschichtabscheidung von Metallen und Halbleitern im Hochvakuum aus thermischen Verdampferquellen
Hauptanwendung: Kontaktmetallisierung und elektrische Leiterbahnen auf Halbleiterbauelementen
Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur
Themat. Schwerpunkt: Halbleitertechnologie
Zuordnung zur Forschungsinfrastruktur
Für Details kontaktieren Sie bitte die verantwortliche Person.
IST Austria (Gugging)
Univ. Rom Sapienza
Univ. Rom Sapienza