Dünnfilm-Beschichtungsanlage inkl. Zubehör

Universität Innsbruck

Innsbruck

Großgerät

Kurzbeschreibung

Bei dieser Anlage handelt es sich um eine Ultrahochvakuum-Dünnfilmbeschichtungsanlage zur Abscheidung von dünnen (~100 nm) Schichten verschiedener Materilalien, wie sie zu Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Quantenphysik benöigt werden.
Ultrahochvakuumkammer zur Verarbeitung oxidationsemfindlicher Materialien. Beschichtung per Elektronenstrahlverdampfung und Sputtern. Möglichkeit der Abscheidung von Nitriden und Oxiden durch reaktives Sputtern. Substratkühlung zur Vermeidung thermischer Degradation von Polymermasken. In-situ Rotation des Substrats zur Verbesserung der Schichthomogenität. Argon-Ionenquelle zur in-situ Plasmareinigung von Substraten.

Ansprechperson

Dr. Markus Weiss

Research Services

Nanofabrikation, Dünnfilmbeschichtung

Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur

Abscheidung dünner Filme verschiedener Materialien zur Herstellung von Nanostrukturen für die Quantenphysik

Dr. Markus Weiss
Inst. für Experimentalphysik
Markus.Weiss@uibk.ac.at
nach Rücksprache
Institut für Experimentalphysik, Universität Innsbruck
Institut für Quantenoptik und Quanteninformation Innsbruck, Österreichische Akademie der Wissenschaften