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Großgerät

Dünnfilm-Beschichtungsanlage (inkl. Zubehör)

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Universität Innsbruck

Innsbruck


Kurzbeschreibung

Bei dieser Anlage handelt es sich um eine Ultrahochvakuum-Dünnfilmbeschichtungsanlage zur Abscheidung von dünnen (~100 nm) Schichten verschiedener Materilalien, wie sie zu Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Quantenphysik benöigt werden. Ultrahochvakuumkammer zur Verarbeitung oxidationsemfindlicher Materialien. Beschichtung per Elektronenstrahlverdampfung und Sputtern. Möglichkeit der Abscheidung von Nitriden und Oxiden durch reaktives Sputtern. Substratkühlung zur Vermeidung thermischer Degradation von Polymermasken. In-situ Rotation des Substrats zur Verbesserung der Schichthomogenität. Argon-Ionenquelle zur in-situ Plasmareinigung von Substraten.

Ansprechperson

Dr. Markus Weiss

Research Services

Nanofabrikation, Dünnfilmbeschichtung
Die Forschungsinfrastruktur ist "Open for Collaboration". Kommerzielle Kooperationen sind nicht möglich.

Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur

Abscheidung dünner Filme verschiedener Materialien zur Herstellung von Nanostrukturen für die Quantenphysik

Nutzungsbedingungen

Nutzungsbedingungen nach Rücksprache
Nutzungsbedingungen werden im Rahmen einer wissenschaftlichen Kooperation definiert. Keine kommerzielle Nutzung möglich. Bei Interesse an einer Kooperation oder Zusammenarbeit bitten wir Sie um Kontaktaufnahme.

Kooperationspartner

Institut für Experimentalphysik, Universität Innsbruck
Institut für Quantenoptik und Quanteninformation Innsbruck, Österreichische Akademie der Wissenschaften

Kontakt

Dr. Markus Weiss
Inst. für Experimentalphysik
Markus.Weiss@uibk.ac.at

Standort

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