Oxford Plasmalab 100

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Großgerät

Kurzbeschreibung

Oxford Plasmalab System 100 und Zusatzausstattungen
Reaktive Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma und Einrichtung zur Substratkühlung mit flüssigem Stickstoff. Die Anlage dient zum anisotropen Ätzen von Nanostrukturen in Silizium-basierte Heterostrukturen.

Ansprechperson

Univ.-Prof. Dr. Friedrich Schäffler

Research Services

Oxford Plasmalab System 100 und Zusatzausstattungen
Reaktive Ionenätzanlage mit induktiv gekoppeltem Plasma und Einrichtung zur Substratkühlung mit flüssigem Stickstoff. Die Anlage dient zum Anisotropen Ätzen von Nanostrukturen in Silizium-basierte Heterostrukturen.

Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur

Zur Realisierung nanoelektronischer und nanooptischer Bauelemente werden Silizium-Germanium-Strukturen durch anisotrope Plasmaätzverfahren bearbeitet. Die Cryo-Ausführung des Oxford Plasmalab 100 ist eine Grundvoraussetzung für Forschung in den Bereichen Nanotechnologie und IKT.

Univ.-Prof. Dr. Friedrich Schäffler
Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik, Abteilung für Halbleiterphysik
+43 732 2468 9606
friedrich.schaeffler@jku.at
http://www.jku.at/hfp/
Für Details kontaktieren Sie bitte die verantwortliche Person.
Spezialforschungsbereich SFB 025 "IRoN" des Fonds zur Förderung der wissenschaftlichen Forschung in Österreich (FWF)
Commensurate germanium light emitters in silicon-on-insulator photonic crystal slabs,
R. Jannesari, M. Schatzl, F. Hackl, M. Glaser, K. Hingerl, T. Fromherz and F. Schäffler,
Opt. Express 22, 25426-25435 (2014),
http://dx.doi.org/10.1364/OE.22.025426

Single SiGe quantum dots deterministically aligned to the antinodes of a photonic crystal cavity mode,
M. Schatzl, F. Hackl, T. Fromherz, F. Schäffler,
IEEE Proc. 12th Int. Conf. Group IV Photonics (GFP), pp. 39-40 (2015)
http://dx.doi.org/10.1109/Group4.2015.7305943