Elektronenstrahl-Lithographie-Anlage: Raith eLine plus

JKU - Johannes Kepler Universität Linz

Linz | Website

Großgerät

Kurzbeschreibung

Anlage für die Herstellung von Nanostrukturen mittels Elektronenstrahl-Lithographie

Ansprechperson

Univ.-Prof. Dr. Armando Rastelli

Research Services

Elektronenstrahl-Lithographie auf Substraten bis 100 mm Durchmesser mit Elektronenenergien bis zu 30 keV; Laserbühne mit 10nm Positioniergenauigkeit

Methoden & Expertise zur Forschungsinfrastruktur

Elektronenstrahl-Lithographie, Nanostrukturierung

Zuordnung zur Core Facility

Center for Nanoscale Semiconductors

Univ.-Prof. Dr. Armando Rastelli
Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik, Abteilung für Halbleiterphysik
+43 732 2468 9601
armando.rastelli@jku.at
http://www.jku.at/hfp
Nutzungsbedingungen nach Absprache
IST Austria
Univ. Pavia
Heavy-Hole States in Germanium Hut Wires
Hannes Watzinger, Christoph Kloeffel, Lada Vukušić, Marta D. Rossell, Violetta Sessi, Josip Kukučka, Raimund Kirchschlager, Elisabeth Lausecker, Alisha Truhlar, Martin Glaser, Armando Rastelli, Andreas Fuhrer, Daniel Loss, and Georgios Katsaros
Nano Lett., 2016, 16 (11), pp 6879–6885
http://dx.doi.org/10.1021/acs.nanolett.6b02715

Enhanced telecom emission from single group-IV quantum dots by precise CMOS-compatible positioning in photonic crystal cavities
Magdalena Schatzl, Florian Hackl, Martin Glaser, Patrick Rauter, Moritz Brehm, Lukas Spindlberger, Angelica Simbula, Matteo Galli, Thomas Fromherz, and Friedrich Schäffler
ACS Photonics 2017
http://dx.doi.org/10.1021/acsphotonics.6b01045